Přejít k obsahu

doc. Ing. Pavel Baroch, Ph.D.

doc. Ing. Pavel Baroch, Ph.D.

Narozen 6. 4. 1977 v Čáslavi. V roce 2000 zíkal titul Ing. v oboru Aplikovaná fyzika a fyzikální inženýrství a v roce 2004 titul Ph.D. v oboru Fyzika plazmatu a tenkých vrstev na Fakultě aplikovaných věd Západočeské univerzity v Plzni. V roce 2002 absolvoval měsíční studijní pobyt na Univerzitě Sungkyunkwan v Suwonu, Jižní Korea a v letech 2004–2006 post-doktorský studijní pobyt v EcoTopia Science Institute, Nagoya University, Japonsko.

Od roku 2006 zaměstnán na katedře fyziky jako vědecký pracovník a od roku 2010 jako akademický pracovník. V roce 2012 jmenován docentem v oboru Aplikovaná fyzika. Hlavní vědecko-výzkumná činnost je zaměřena zejména na výzkum materiálů pro antibakteriální povrchy a výzkum nových plazmových zdrojů pro depozici tenkých vrstev a dále pak na studium a využití plazmových výbojů generovaných v kapalinách pro rozklad organických nečistot a syntézu nových materiálů.

Autor či spoluautor tří kapitol v knihách vydaných v zahraničí, dvou mezinárodních patentů a 22 vědeckých článků publikovaných v zahraničních odborných časopisech. Tyto práce byly do konce roku 2019 citovány ve více než 600 publikacích jiných autorů. Podílí se či podílel na řešení výzkumných projektů SMV 529005,  GAČR P108-12-0393, ME 673, G5RD-CT-2002-00861, NMP2-LA-2008-214134, OC10045.

Vybrané publikace:

  • J. Rezek, J. Houška, M. Procházka, S. Haviar, T. Kozák, P. Baroch: In-Ga-Zn-O thin films with tunable optical and electrical properties prepared by high-power impulse magnetron sputtering, Thin Solid Films 658 (2018) 27–32.
  • J. Musil, P. Zeman, P. Baroch: Hard Nanocomposite Coatings (book chapter) in Comprehensive Materials Processing, Volume 4 (2014) 325–353.
  • J. Musil, P. Baroch: High-rate pulsed reactive magnetron sputtering of oxide nanocomposite coatings, Vacuum 87 (2013) 96–102.
  • N. Andreeva, T. Ishizaki, P. Baroch, N. Saito: High sensitive detection of volatile organic compounds using superhydrophobic quartz crystal microbalance, Sensors and Actuators, B: Chemical 164 (2012) 15–21.
  • M. Meissner, T. Tolg, P. Baroch, J. Musil: Elimination of arcing in reactive sputtering of Al2O3 thin films prepared by DC pulse single magnetron, Plasma Proc. Polym. 8 (6) 2011, 500–504.
  • P. Baroch, S. Potocky, N. Saito: Generation of plasmas in water: utilization of high frequency, low voltage bipolar pulse power supply with impedance control, Plasma Sources Sci. Technol. 20 (2011) 034017.
  • J. Musil, V. Satava, P. Baroch: High-rate reactive deposition of transparent SiO2 films containing low amount of Zr from molten magnetron target, Thin Solid Films 519 (2010) 775–777.
  • P. Baroch, J. Musil: Plasma Drift in Dual Magnetron Discharge - IEEE Transactions on Plasma Science 36 (2008) 1412–1413.
  • P. Baroch, N. Saito, O. Takai: Special type of plasma dielectric barrier discharge reactor for direct ozonization of water and degradation of organic pollution, J. Phys. D: Appl. Phys. 41 (2008) 085207.
  • P. Baroch, V. Anita, N. Saito, O. Takai: Bipolar pulsed electrical discharge for decomposition of organic compounds in water, Journal of Electrostatics 66 (2008) 294–299.
  • P. Baroch, J. Musil, J. Vlcek, K.H. Nam, J.G. Han: Reactive magnetron sputtering of TiOxfilms, Surface and Coatings Technology 193 (2005) 107–111.

Patička