Přejít k obsahu

prof. RNDr. Jaroslav Vlček, CSc.

prof. RNDr. Jaroslav Vlček, CSc.Narozen 4.11.1952 ve Strakonicích. V letech 1972 až 1977 studium oboru Fyzika na Matematicko-fyzikální fakultě Univerzity Karlovy (MFF UK) v Praze. V roce 1980 obhajoba rigorózní práce (RNDr.) na MFF UK v Praze. V letech 1981 až 1986 externí vědecká příprava (CSc.) na Fakultě elektrotechnické ČVUT v Praze.

Od roku 1977 zaměstnán na katedře fyziky Vysoké školy strojní a elektrotechnické, od roku 1990 Západočeská univerzita, v Plzni. Nejprve jako lektor (1977-1980, v tom 1 rok vojenská služba), potom odborný asistent (1980-1990) a docent (1990-1997; jmenován v roce 1990, habilitace v oboru Aplikovaná fyzika v roce 1992). Profesorem pro obor Aplikovaná fyzika jmenován v roce 1997. Od roku 1990 vedoucí katedry fyziky na Fakultě aplikovaných věd ZČU a člen vědecké rady FAV a vědecké rady ZČU v Plzni. Od roku 1991 předseda oborové rady pro doktorské studium v oboru Fyzika plazmatu a tenkých vrstev na FAV ZČU v Plzni. Člen oborových rad pro doktorské studium na Přírodovědecké fakultě MU v Brně a na FST ZČU v Plzni. Od roku 2003 zástupce České republiky v divizi Advanced Surface Engineering IUVSTA (International Union for Vacuum Science, Technique and Application). Od roku 2008 zástupce České republiky v EJC PISE (European Joint Committee on Plasma and Ion Surface Engineering).

Autor a spoluautor více než 115 původních vědeckých prací publikovaných v zahraničí (počet citací v pracích jiných autorů: více než 2300). Od roku 1995 řešitel 12 vědeckých projektů (MŠMT ČR - 2 výzkumné záměry, Program "250", INSTRUMENT, COST a KONTAKT; GA ČR, AKTION a NATO) a 3 investičních projektů Fondu rozvoje vysokých škol a školitel 31 studentů doktorského studia (z toho 26 úspěšných absolventů do dubna 2017).

Absolvoval studijní pobyty a pracovní stáže (stipendium zahraničního partnera) v Japonsku (1987), Nizozemí (1991 a 1993), USA (1995), Francii (2001 a 2004) a v Jižní Koreji (2003).

Vybrané publikace:

(úplný seznam na ResearcherID: B-9259-2016)

    • J. Vlček, A. D. Pajdarová and J. Musil: Pulsed dc magnetron discharges and their utilization in plasma surface engineering, Contrib. Plasma Phys. 44 (2004) 426.
    • J. Vlček, Š. Potocký, J. Čížek, J. Houška, M. Kormunda, P. Zeman, V. Peřina, J. Zemek, Y. Setsuhara and S. Konuma: Reactive magnetron sputtering of hard Si-B-C-N films with a high-temperature oxidation resistance, J. Vac. Sci. Technol. A 23 (2005) 1513.
    • J. Vlček, P. Kudláček, K. Burcalová and J. Musil: High-power pulsed sputtering using a magnetron with enhanced plasma confinement, J. Vac. Sci. Technol. A25 (2007) 42.
    • P. Kudláček, J. Vlček, K. Burcalová and J. Lukáš: Highly ionized fluxes of sputtered titanium atoms in high-power pulsed magnetron discharges, Plasma Sources Sci. Technol. 17 (2008) 025010.
    • J. Vlček, S. Hřeben, J. Kalaš, J. Čapek, P. Zeman, R. Čerstvý, V. Peřina and Y. Setsuhara: Magnetron sputtered Si-B-C-N films with high oxidation resistance and thermal stability in air at temperatures above 1500 °C, J. Vac. Sci. Technol. A26 (2008) 1101.
    • A.D. Pajdarová, J. Vlček, P. Kudláček and J. Lukáš: Electron energy distributions and plasma parameters in high-power pulsed magnetron sputtering discharges, Plasma Sources Sci. Technol. 18 (2009) 025008.
    • J. Lazar, J. Vlček and J. Rezek: Ion flux characteristics and efficiency of the deposition processes in high power impulse magnetron sputtering of zirconium, J. Appl. Phys. 108 (2010) 063307.
    • J. Vlček and K. Burcalová: A phenomenological equilibrium model applicable to high-power pulsed magnetron sputtering, Plasma Sources Sci. Technol. 19 (2010) 065010.
    • O. Novák and J. Vlček: Effect of ion bombarding energies on photocatalytic TiO2 films growing in a pulsed dual magnetron discharge, J. Vac. Sci. Technol. A29 (2011) 031301.
    • J. Vlček, P. Calta, P. Steidl, P. Zeman, R. Čerstvý, J. Houška and J. Kohout: Pulsed reactive magnetron sputtering of high-temperature Si-B-C-N films with high optical transparency,  Surf. Coat. Technol. 226 (2013) 34.
    • T. Kozák, J. Vlček and Š. Kos: Transport and ionization of sputtered atoms in high-power impulse magnetron sputtering discharges, J. Phys. D: Appl. Phys. 46 (2013) 105203.
    • J. Vlček, P. Steidl, J. Kohout, R. Čerstvý, P. Zeman, Š. Prokšová and V. Peřina: Hard nanocrystalline Zr-B-C-N films with high electrical conductivity prepared by pulsed magnetron sputtering, Surf. Coat. Technol. 215 (2013) 186.
    • J. Vlček, J. Rezek, J. Houška, R. Čerstvý, R. Bugyi: Process stabilization and a significant enhancement of the deposition rate in reactive high-power impulse magnetron sputtering of ZrO2 and Ta2O5 films, Surf. Coat. Technol. 236 (2013) 550.
    • J. Rezek, J. Vlček, J. Houška, R. Čerstvý: High-rate reactive high-power impulse magnetron sputtering of Ta–O–N films with tunable composition and properties, Thin Solid Films 566 (2014) 70.
    • J. Kohout, J. Vlček, J. Houška, P. Mareš, R. Čerstvý, P. Zeman, et al.: Hard multifunctional Hf–B–Si–C films prepared by pulsed magnetron sputtering, Surf. Coat. Technol. 257 (2014) 301.
    • J. Vlček, J. Rezek, J. Houška, T. Kozák, J. Kohout: Benefits of the controlled reactive high-power impulse magnetron sputtering of stoichiometric ZrO2 films, Vacuum 114 (2015) 131.
    • T. Kozák, J. Vlček: A parametric model for reactive high-power impulse magnetron sputtering of films, J. Phys. D-Appl. Phys. 49 (2016) 055202.
    • J. Vlček, A. Belosludtsev, J. Rezek, J. Houška, J. Čapek, R. Čerstvý, S. Haviar: High-rate reactive high-power impulse magnetron sputtering of hard and optically transparent HfO2 films, Surf. Coat. Technol. 290 (2016) 58.
    • A. Belosludtsev, J. Houška, J. Vlček, S. Haviar, R. Čerstvý, J. Rezek, M. Kettner: Structure and properties of Hf-O-N films prepared by high-rate reactive HiPIMS with smoothly controlled composition, Ceram. Int. 43 (2017) 5661.

Patička